Hamımızın bildiyi kimi, püskürtmə hədəflərinin bir çox spesifikasiyası var və onların tətbiq sahələri də çox genişdir.Müxtəlif sahələrdə geniş istifadə olunan hədəf növləri də fərqlidir.Bu gün gəlin RSM redaktoru ilə püskürən hədəf tətbiq sahələrinin təsnifatı haqqında öyrənək!
1, Püskürtmə hədəfinin tərifi
Püskürtmə nazik təbəqə materiallarının hazırlanması üçün əsas texnologiyalardan biridir.Yüksək sürətli ion şüası yaratmaq, bərk səthi bombalamaq və ionlar bərk səthdəki atomlarla kinetik enerji mübadiləsini sürətləndirmək və vakuumda toplamaq üçün ion mənbəyi tərəfindən istehsal olunan ionlardan istifadə edir, beləliklə bərk cisimdəki atomlar səthi bərkdən ayrılır və substratın səthinə çökür.Bombardman edilmiş bərk cisim püskürtmə ilə çökdürülmüş nazik təbəqənin hazırlanması üçün xammaldır ki, bu da püskürtmə hədəfi adlanır.
2, Püskürtmə hədəf tətbiq sahələrinin təsnifatı
1. Yarımkeçirici hədəf
(1) Ümumi hədəflər: bu sahədə ümumi hədəflərə tantal / mis / titan / alüminium / qızıl / nikel kimi yüksək ərimə nöqtəsi metalları daxildir.
(2) İstifadəsi: əsasən inteqral sxemlər üçün əsas xammal kimi istifadə olunur.
(3) Performans tələbləri: təmizlik, ölçü, inteqrasiya və s. üçün yüksək texniki tələblər.
2. Düz panel ekran üçün hədəf
(1) Ümumi hədəflər: bu sahədə ümumi hədəflərə alüminium / mis / molibden / nikel / niobium / silisium / xrom və s. daxildir.
(2) İstifadə: bu cür hədəf əsasən televizorlar və noutbuklar kimi geniş sahəli filmlərin müxtəlif növləri üçün istifadə olunur.
(3) Performans tələbləri: təmizliyə yüksək tələblər, geniş sahə, vahidlik və s.
3. Günəş batareyası üçün hədəf material
(1) Ümumi hədəflər: alüminium / mis / molibden / xrom / ITO / Ta və günəş hüceyrələri üçün digər hədəflər.
(2) İstifadəsi: əsasən "pəncərə təbəqəsi", maneə təbəqəsi, elektrod və keçirici filmdə istifadə olunur.
(3) Performans tələbləri: yüksək texniki tələblər və geniş tətbiq diapazonu.
4. Məlumatın saxlanması üçün hədəf
(1) Ümumi hədəflər: kobalt / nikel / ferroərinti / xrom / tellur / selenium və məlumatın saxlanması üçün digər materialların ümumi hədəfləri.
(2) İstifadə: bu cür hədəf material əsasən optik sürücünün və optik diskin maqnit başlığı, orta təbəqəsi və alt təbəqəsi üçün istifadə olunur.
(3) Performans tələbləri: yüksək saxlama sıxlığı və yüksək ötürmə sürəti tələb olunur.
5. Alətin dəyişdirilməsi üçün hədəf
(1) Ümumi hədəflər: alətlər tərəfindən dəyişdirilmiş titan / sirkonium / xrom alüminium ərintisi kimi ümumi hədəflər.
(2) İstifadəsi: adətən səthi möhkəmləndirmək üçün istifadə olunur.
(3) Performans tələbləri: yüksək performans tələbləri və uzun xidmət müddəti.
6. Elektron cihazlar üçün hədəflər
(1) Ümumi hədəflər: elektron cihazlar üçün ümumi alüminium ərintisi / silisid hədəfləri
(2) Məqsəd: ümumiyyətlə nazik təbəqəli rezistorlar və kondansatörlər üçün istifadə olunur.
(3) Performans tələbləri: kiçik ölçü, sabitlik, aşağı müqavimət temperatur əmsalı
Göndərmə vaxtı: 27 iyul 2022-ci il