1. Maqnetron püskürtmə üsulu:
Maqnetron püskürtmə DC püskürtmə, orta tezlikli püskürtmə və RF püskürtmə bölünə bilər.
A. DC püskürən enerji təchizatı ucuzdur və yığılmış filmin sıxlığı zəifdir.Ümumiyyətlə, yerli fototermal və nazik film batareyaları aşağı enerji ilə istifadə olunur və püskürtmə hədəfi keçirici metal hədəfdir.
B. RF püskürtmə enerjisi yüksəkdir və püskürtmə hədəfi keçirici olmayan hədəf və ya keçirici hədəf ola bilər.
C. Orta tezlikli püskürtmə hədəfi keramika hədəfi və ya metal hədəf ola bilər.
2. Püskürtmə hədəflərinin təsnifatı və tətbiqi
Püskürtmə hədəflərinin bir çox növləri var və hədəf təsnifat üsulları da fərqlidir.Forma görə uzun hədəf, kvadrat hədəf və dairəvi hədəfə bölünürlər;Tərkibinə görə, metal hədəfə, ərinti hədəfinə və keramika birləşmə hədəfinə bölünə bilər;Fərqli tətbiq sahələrinə görə, o, yarımkeçirici ilə əlaqəli keramika hədəflərə, orta keramika hədəfləri qeyd etməyə, keramika hədəfləri göstərməyə və s.Bu sənayedə müvafiq nazik film məhsulları (sərt disk, maqnit başlıq, optik disk və s.) hazırlamaq üçün püskürtmə hədəflərindən istifadə olunur.Hal hazırda.İnformasiya sənayesinin davamlı inkişafı ilə bazarda orta keramika hədəflərinin qeydinə tələbat artır.Qeyd orta hədəflərin tədqiqi və istehsalı geniş diqqət mərkəzinə çevrilmişdir.
Göndərmə vaxtı: 11 may 2022-ci il