Hamımızın bildiyimiz kimi, vakuumla buxarlanma və ion püskürtmə vakuum örtüklərində geniş istifadə olunur.Buxarlanma örtüyü ilə püskürən örtük arasındakı fərq nədir?Sonra RSM-in texniki ekspertləri bizimlə paylaşacaqlar.
Vakuum buxarlanma örtüyü, vakuum dərəcəsi 10-2Pa-dan az olmayan bir mühitdə müqavimətli qızdırma və ya elektron şüa və lazer bombardmanı vasitəsilə buxarlanacaq materialın müəyyən bir temperatura qədər qızdırılmasıdır ki, molekulların istilik vibrasiya enerjisi və ya materialdakı atomlar səthin bağlanma enerjisini üstələyir, beləliklə, çoxlu sayda molekul və ya atom buxarlanır və ya sublimləşir və bir film yaratmaq üçün substratda birbaşa çökür.İon püskürən örtük, hədəfi katod kimi bombalamaq üçün elektrik sahəsinin təsiri altında qaz boşalması nəticəsində yaranan müsbət ionların yüksək sürətli hərəkətindən istifadə edir, beləliklə hədəfdəki atomlar və ya molekullar qaçaraq örtüklü iş parçasının səthinə çökür. tələb olunan film.
Vakuum buxarlanma örtüyünün ən çox istifadə edilən üsulu, sadə quruluş, aşağı qiymət və rahat işləmə üstünlüklərinə malik olan müqavimətli istilikdir;Dezavantaj odur ki, odadavamlı metallar və yüksək temperatura davamlı dielektrik materiallar üçün uyğun deyil.Elektron şüa ilə isitmə və lazerlə isitmə müqavimət qızdırmasının çatışmazlıqlarını aradan qaldıra bilər.Elektron şüa ilə isitmədə fokuslanmış elektron şüası birbaşa bombardman edilən materialı qızdırmaq üçün istifadə olunur və elektron şüasının kinetik enerjisi istilik enerjisinə çevrilir və bu da materialın buxarlanmasına səbəb olur.Lazer isitmə istilik mənbəyi kimi yüksək güclü lazerdən istifadə edir, lakin yüksək güclü lazerin yüksək qiyməti səbəbindən hazırda yalnız bir neçə tədqiqat laboratoriyasında istifadə edilə bilər.
Püskürtmə texnologiyası vakuum buxarlandırma texnologiyasından fərqlidir.“Püskürtmə” yüklü hissəciklərin bərk səthi (hədəf) bombalaması və bərk atomların və ya molekulların səthdən çıxmasına səbəb olan hadisəyə aiddir.Buraxılan hissəciklərin əksəriyyəti atom vəziyyətindədir, buna tez-tez püskürən atomlar deyilir.Hədəfi bombalamaq üçün istifadə edilən püskürən hissəciklər elektronlar, ionlar və ya neytral hissəciklər ola bilər.Tələb olunan kinetik enerjini əldə etmək üçün ionları elektrik sahəsi altında sürətləndirmək asan olduğundan, onların əksəriyyəti ionlardan bombalanmış hissəciklər kimi istifadə edirlər.Püskürtmə prosesi parıltı boşalmasına əsaslanır, yəni püskürən ionlar qaz boşalmasından gəlir.Fərqli püskürtmə texnologiyaları fərqli parıltı boşalma rejimlərini qəbul edir.DC diod püskürtmə DC parıltı boşalmasından istifadə edir;Triod püskürməsi isti katod tərəfindən dəstəklənən parıltı boşalmasıdır;RF püskürtmə RF parıltı boşalmasından istifadə edir;Maqnetron sıçrayışı dairəvi maqnit sahəsi tərəfindən idarə olunan parıltı boşalmasıdır.
Vakuum buxarlanma örtüyü ilə müqayisədə püskürən örtük bir çox üstünlüklərə malikdir.Məsələn, hər hansı bir maddə, xüsusilə yüksək ərimə nöqtəsi və aşağı buxar təzyiqi olan elementlər və birləşmələr püskürə bilər;Püskürtülmüş film və substrat arasında yapışma yaxşıdır;Yüksək film sıxlığı;Filmin qalınlığına nəzarət edilə bilər və təkrarlanma qabiliyyəti yaxşıdır.Dezavantaj, avadanlıqların mürəkkəb olması və yüksək gərginlikli cihazlar tələb etməsidir.
Bundan əlavə, buxarlanma üsulu ilə püskürtmə metodunun birləşməsi ion örtükdür.Bu metodun üstünlükləri ondan ibarətdir ki, alınan film substratla güclü yapışma, yüksək çökmə sürəti və yüksək film sıxlığına malikdir.
Göndərmə vaxtı: 20 iyul 2022-ci il