Hamımız bilirik ki, püskürtmə plyonka materiallarının hazırlanması üçün əsas texnologiyalardan biridir.Yüksək sürətli ion şüası yaratmaq, bərk səthi bombalamaq və ionlar bərk səthdəki atomlarla kinetik enerji mübadiləsini həyata keçirmək üçün vakuumda birləşməni sürətləndirmək üçün ion mənbəyi tərəfindən istehsal olunan ionlardan istifadə edir, beləliklə bərk cisimdəki atomlar səthi qatı buraxın və substratın səthinə çökdürün.Bombardman edilmiş bərk maddə püskürtmə hədəfi adlanan püskürtmə yolu ilə filmin çökməsi üçün xammaldır.
Yarımkeçirici inteqral sxemlərdə, qeyd mühitində, planar displeydə, alət və kalıp səthinin örtülməsində və s.-də müxtəlif növ püskürən film materiallarından geniş istifadə edilmişdir.
Püskürtmə hədəfləri əsasən elektron və informasiya sənayelərində istifadə olunur, məsələn, inteqral sxemlər, məlumat saxlama, maye kristal displeylər, lazer yaddaşları, elektron idarəetmə avadanlıqları və s.;Şüşə örtüyü sahəsində də istifadə edilə bilər;O, həmçinin aşınmaya davamlı materiallarda, yüksək temperaturda korroziyaya davamlılıqda, yüksək səviyyəli dekorativ məhsullarda və digər sənaye sahələrində istifadə edilə bilər.
Püskürtmə hədəflərinin bir çox növləri var və hədəflərin təsnifatı üçün müxtəlif üsullar var:
Tərkibinə görə, metal hədəfə, ərinti hədəfinə və keramika birləşmə hədəfinə bölünə bilər.
Formaya görə uzun hədəf, kvadrat hədəf və dairəvi hədəfə bölünə bilər.
Tətbiq sahəsinə görə mikroelektron hədəf, maqnit qeyd hədəfi, optik disk hədəfi, qiymətli metal hədəf, film müqavimət hədəfi, keçirici film hədəfi, səth modifikasiyası hədəfi, maska hədəfi, dekorativ təbəqə hədəfi, elektrod hədəfi və digər hədəflərə bölünə bilər.
Fərqli tətbiqlərə görə, yarımkeçirici ilə əlaqəli keramika hədəflərə, orta keramika hədəfləri qeyd etməyə, keramika hədəfləri göstərməyə, super keçirici keramika hədəflərə və nəhəng maqnit müqavimətli keramika hədəflərə bölmək olar.
Göndərmə vaxtı: 29 iyul 2022-ci il