Püskürtmə hədəf materialının əsas xüsusiyyətləri

Biz indi hədəflə çox tanış olmalıyıq, indi hədəf bazar da artır, RSM redaktoru tərəfindən paylaşılan sıçrayış hədəfinin əsas performansı aşağıdakılardır.

　　Saflıq

Hədəf materialın təmizliyi əsas performans göstəricilərindən biridir, çünki hədəf materialın təmizliyi nazik təbəqənin işinə böyük təsir göstərir.Bununla belə, praktik tətbiqdə hədəf materialların təmizlik tələbləri eyni deyil.Məsələn, mikroelektronika sənayesinin sürətli inkişafı ilə silikon çip ölçüsü 6 ", 8"dən 12"-ə qədər inkişaf etdirildi və naqillərin eni 0,5 um-dən 0,25 um, 0,18 um və ya hətta 0,13 um-ə qədər azaldıldı.Əvvəllər, 99,995% hədəf materialın təmizliyi 0,35umIC proses tələblərinə cavab verə bilər.Hədəf materialının təmizliyi 0,18um xətlərin hazırlanması üçün 99,999% və ya hətta 99,9999% təşkil edir.

　　Çirklilik tərkibi

Hədəf bərk cisimdəki çirklər və məsamələrdəki oksigen və su buxarı filmin çökməsinin əsas çirkləndirici mənbələridir.Fərqli məqsədlər üçün nəzərdə tutulmuş materiallar müxtəlif çirklərin tərkibinə görə fərqli tələblərə malikdir.Məsələn, yarımkeçirici sənayedə istifadə edilən təmiz alüminium və alüminium ərintisi hədəfləri qələvi metalların və radioaktiv elementlərin tərkibinə xüsusi tələblər qoyur.

　　Sıxlıq

Hədəf bərk cismin məsaməliliyini azaltmaq və püskürən filmin işini yaxşılaşdırmaq üçün adətən hədəfin yüksək sıxlığı tələb olunur.Hədəfin sıxlığı təkcə püskürtmə sürətinə deyil, həm də filmin elektrik və optik xüsusiyyətlərinə təsir göstərir.Hədəf sıxlığı nə qədər yüksək olsa, film performansı bir o qədər yaxşı olar.Bundan əlavə, hədəfin sıxlığının və gücünün artırılması, hədəfin püskürtmə prosesində termal stressə daha yaxşı tab gətirməsini təmin edir.Sıxlıq da hədəfin əsas performans göstəricilərindən biridir.

　　Taxıl ölçüsü və taxıl ölçüsünün paylanması

Hədəf adətən mikrometrdən millimetrə qədər olan taxıl ölçüsü ilə polikristaldir.Eyni hədəf üçün kiçik taxıllarla hədəfin püskürtmə sürəti böyük taxıllı hədəfdən daha sürətlidir.Daha kiçik taxıl ölçüsü fərqi (vahid paylama) ilə püskürtmə hədəfi ilə çökdürülmüş filmlərin qalınlıq paylanması daha vahiddir.