Bəzi müştərilər silikon püskürtmə hədəfləri haqqında soruşdular.İndi RSM Texnologiya Departamentindən olan həmkarlar sizin üçün silikon püskürtmə hədəflərini təhlil edəcəklər.
Silikon püskürtmə hədəfi silikon külçədən metal püskürtməklə hazırlanır.Hədəf müxtəlif proses və üsullarla, o cümlədən elektrokaplama, püskürtmə və buxar çöküntüsü ilə hazırlana bilər.Tercih edilən təcəssümlər, əlavə təmizləmə və aşındırma proseslərini istənilən səth şəraitinə nail olmaq üçün təmin edir.İstehsal olunan hədəf 500 angstromdan az pürüzlülük və nisbətən sürətli yanma sürəti ilə yüksək əks etdiricidir.Silikon hədəf tərəfindən hazırlanan film aşağı hissəcik sayına malikdir.
Silikon püskürtmə hədəfi silikon əsaslı materiallara nazik filmlərin çökdürülməsi üçün istifadə olunur.Onlar adətən ekran, yarımkeçirici, optik, optik rabitə və şüşə örtük tətbiqlərində istifadə olunur.Onlar yüksək texnoloji komponentləri aşındırmaq üçün də uyğundur.N-tipli silisium püskürtmə hədəfləri müxtəlif məqsədlər üçün istifadə edilə bilər.Bu, elektronika, günəş batareyaları, yarımkeçiricilər və displeylər də daxil olmaqla bir çox sahələrə tətbiq olunur.
Silikon püskürtmə hədəfi materialların səthə çökdürülməsi üçün istifadə edilən püskürtmə aksesuarıdır.Adətən silisium atomlarından ibarətdir.Püskürtmə prosesi çox çətin ola biləcək dəqiq miqdarda material tələb edir.İdeal püskürtmə avadanlıqlarından istifadə silikon əsaslı komponentlər hazırlamağın yeganə yoludur.Qeyd etmək lazımdır ki, silisium püskürtmə hədəfi püskürtmə prosesində istifadə edilmir.
Göndərmə vaxtı: 24 oktyabr 2022-ci il