Odadavamlı volfram metalları və volfram ərintiləri yüksək temperatur sabitliyi, elektron miqrasiyasına yüksək müqavimət və yüksək elektron emissiya əmsalı üstünlüklərinə malikdir.Yüksək təmizlikli volfram və volfram ərintisi hədəfləri əsasən qapı elektrodlarını, əlaqə naqillərini, yarımkeçirici inteqral sxemlərin diffuziya maneə təbəqələrini hazırlamaq üçün istifadə olunur.Onlar materialların saflığına, çirkli elementlərin tərkibinə, sıxlığına, taxıl ölçüsünə və vahid taxıl quruluşuna çox yüksək tələblər qoyurlar.Yüksək təmizlikdə volfram hədəfinin hazırlanmasına təsir edən amillərə nəzər salaqby Rich Xüsusi Material Co., Ltd.
I. Sinterləmə temperaturunun təsiri
Volfram hədəf embrionunun formalaşması prosesi adətən soyuq izostatik təzyiqlə həyata keçirilir.Sinterləmə zamanı volfram taxıl böyüyəcəkdir.Volfram taxılının böyüməsi kristal sərhədləri arasındakı boşluğu dolduracaq və beləliklə volfram hədəfinin sıxlığını artıracaqdır.Sinterləmə müddətinin artması ilə volfram hədəfinin sıxlığının artması tədricən yavaşlayır.Əsas səbəb, bir neçə sinterləmə prosesindən sonra volfram hədəf materialının keyfiyyətinin çox dəyişməməsidir.Kristal sərhədindəki boşluqların çoxu volfram kristalları ilə doldurulduğundan, volfram hədəfinin ümumi ölçüsü dəyişmə sürəti hər bir sinterləmə prosesindən sonra çox kiçik olur, bu da volfram hədəf sıxlığının artması üçün məhdud məkanla nəticələnir.Sinterləmə davam etdikcə, böyük volfram taxılları boşluqlara doldurulur, nəticədə daha kiçik ölçülü daha sıx bir hədəf əldə edilir.
2. Təsirihyemək saxlama vaxtı
Eyni sinterləmə temperaturunda, volfram hədəf materialının yığcamlığı sinterləmə vaxtının artması ilə yaxşılaşdırılır.Sinterləmə vaxtının artması ilə volfram taxıl ölçüsü artır və sinterləmə vaxtının uzadılması ilə taxıl ölçüsünün böyümə faktoru tədricən yavaşlayır.Bu, sinterləmə vaxtının artırılmasının da volfram hədəfinin performansını yaxşılaşdıra biləcəyini göstərir.
3. Rollinqin Hədəf P-ə təsiriperformans
Volfram hədəf materiallarının sıxlığını yaxşılaşdırmaq və volfram hədəf materiallarının emal strukturunu əldə etmək üçün volfram hədəf materiallarının orta temperaturda yuvarlanması yenidən kristallaşma temperaturundan aşağı aparılmalıdır.Hədəf blankının yuvarlanma temperaturu yüksək olduqda, hədəf blankının lif quruluşu daha qalın, hədəf blankınki isə daha incə olur.İsti yayma məhsuldarlığı 95% -dən yuxarı olduqda.Fərqli sinterləmə orijinal taxıl və ya yayma temperaturu nəticəsində yaranan lif quruluşu fərqi aradan qaldırılsa da, hədəf daxilində daha homojen lif quruluşu meydana gələcək, buna görə isti yayma emal dərəcəsi nə qədər yüksək olsa, hədəfin performansı daha yaxşı olar.
Göndərmə vaxtı: 05 may 2022-ci il