Maqnetron püskürtmə hədəfinin növləri hansılardır

İndi getdikcə daha çox istifadəçi hədəflərin növlərini başa düşür vəonun tətbiqləri, lakin onun bölmələri çox aydın olmaya bilər.İndi gəlinRSM mühəndisi sizinlə paylaşınbəzi induksiya maqnetron püskürən hədəflərin.

Püskürtmə hədəfi: metal püskürtmə örtüyü hədəfi, ərinti püskürtmə örtüyü hədəfi, keramika püskürtmə örtüyü hədəfi, borid keramika püskürtmə hədəfi, karbid keramika püskürtmə hədəfi, ftorid keramika püskürtmə hədəfi, nitrid keramika püskürtmə hədəfi, oksid keramika hədəfi, selenid keramika püskürtmə hədəfi, hədəf, sulfid keramika püskürtmə hədəfi, tellurid keramika püskürtmə hədəfi, digər keramika hədəfləri, Xrom qatqılı silikon oksid keramika hədəfi (CR SiO), indium fosfid hədəfi (INP), qurğuşun arsenid hədəfi (pbas), indium arsenid hədəfi (InAs).

Maqnetron püskürtmə ümumiyyətlə iki növə bölünür: DC püskürtmə və RF püskürtmə.DC püskürtmə avadanlığının prinsipi sadədir və metal püskürən zaman onun sürəti də sürətlidir.RF püskürtmə geniş istifadə olunur.Keçirici məlumatları püskürtməklə yanaşı, qeyri-keçirici məlumatları da sıçraya bilər.Püskürtmə hədəfi oksidlər, nitridlər və karbidlər kimi mürəkkəb məlumatları hazırlamaq üçün reaktiv püskürtmə üçün də istifadə edilə bilər.RF tezliyi artarsa, o, mikrodalğalı plazma sıçramasına çevriləcək.Hal-hazırda elektron siklotron rezonans (ECR) mikrodalğalı plazma püskürtmə üsulundan çox istifadə olunur.