Veb saytlarımıza xoş gəlmisiniz!
Xəbərlər
-
Püskürtmə texnologiyası ilə püskürtmə hədəfi və onların tətbiqi arasındakı fərqlər
Hamımız bilirik ki, püskürtmə plyonka materiallarının hazırlanması üçün əsas texnologiyalardan biridir.O, yüksək sürətli ion şüası yaratmaq, bərk səthi bombalamaq üçün vakuumda birləşməni sürətləndirmək üçün ion mənbəyi tərəfindən istehsal olunan ionlardan istifadə edir və ionlar atomlarla kinetik enerji mübadiləsi aparır...Daha çox oxu -
Xrom alüminium ərintisi hədəfinin istehsal texnologiyası
Xrom alüminium ərintisi hədəfi, adından da göründüyü kimi, xrom və alüminium ərintisindən hazırlanmış bir hədəfdir.Bir çox dost bu hədəfin necə edildiyi ilə çox maraqlanır.İndi RSM-in texniki mütəxəssisləri xrom alüminium ərintisi hədəfinin istehsal üsulunu təqdim edək.İstehsalat...Daha çox oxu -
Püskürtmə hədəflərinin tətbiq sahələri
Hamımızın bildiyi kimi, püskürtmə hədəflərinin bir çox spesifikasiyası var və onların tətbiq sahələri də çox genişdir.Müxtəlif sahələrdə geniş istifadə olunan hədəf növləri də fərqlidir.Bu gün gəlin e-poçt ilə püskürən hədəf tətbiq sahələrinin təsnifatı haqqında öyrənək...Daha çox oxu -
Polisilikon hədəf nədir
Polisilikon mühüm püskürtmə hədəf materialdır.SiO2 və digər nazik filmləri hazırlamaq üçün maqnetron püskürtmə üsulundan istifadə edərək, matris materialını daha yaxşı optik, dielektrik və korroziyaya qarşı müqavimət göstərə bilər ki, bu da sensor ekran, optik və digər sənayelərdə geniş istifadə olunur.Pr...Daha çox oxu -
Metal hədəflərin ümumi növləri
Hamımızın bildiyi kimi, hədəf material yüksək sürətli yüklü hissəciklərin hədəf materialıdır.Hədəf materiallarının bir çox analoqları var, məsələn, metallar, ərintilər, oksidlər və s.İstifadə olunan sənaye sahələri də müxtəlifdir və onlar geniş istifadə olunur.Beləliklə, ümumi metal hədəflər hansılardır?Nə qədər ...Daha çox oxu -
Keramika hədəflərinin ümumi növləri
Elektron informasiya sənayesinin inkişafı ilə yüksək texnologiyalı materiallar tədricən təbəqədən nazik filmə köçürülür və örtük cihazları sürətlə inkişaf edir.Hədəf materialı yüksək əlavə dəyərə malik xüsusi elektron materialdır və nazik təbəqə materiallarının püskürtülməsi mənbəyidir....Daha çox oxu -
Püskürtmə örtük texnologiyasının üstünlükləri və mənfi cəhətləri
Bu yaxınlarda bir çox istifadəçilər püskürtmə örtük texnologiyasının üstünlükləri və mənfi cəhətləri ilə maraqlandılar, Müştərilərimizin tələblərinə uyğun olaraq, indi RSM Texnologiya Departamentinin mütəxəssisləri problemləri həll etmək ümidi ilə bizimlə paylaşacaqlar.Yəqin ki, aşağıdakı məqamlar var: 1...Daha çox oxu -
Buxarlanma örtüyü ilə püskürən örtük arasındakı fərqlər
Hamımızın bildiyimiz kimi, vakuumla buxarlanma və ion püskürtmə vakuum örtüklərində geniş istifadə olunur.Buxarlanma örtüyü ilə püskürən örtük arasındakı fərq nədir?Sonra RSM-in texniki ekspertləri bizimlə paylaşacaqlar.Vakuum buxarlanma örtüyü buxarlanacaq materialı qızdırmaqdır...Daha çox oxu -
Molibden püskürtmə hədəfinin xarakterik tələbləri
Bu yaxınlarda bir çox dost molibden püskürtmə hədəflərinin xüsusiyyətləri haqqında soruşdu.Elektron sənayesində püskürtmə səmərəliliyini artırmaq və çökdürülmüş filmlərin keyfiyyətini təmin etmək üçün molibden püskürtmə hədəflərinin xüsusiyyətlərinə hansı tələblər qoyulur?İndi...Daha çox oxu -
Molibden püskürtmə hədəf materialının tətbiq sahəsi
Molibden metal elementdir, əsasən dəmir-polad sənayesində istifadə olunur, əksəriyyəti sənayedə molibden oksidi sıxıldıqdan sonra birbaşa polad istehsalı və ya çuqunda istifadə olunur və onun kiçik bir hissəsi ferromolibdenə əridilir və sonra poladda istifadə olunur. edilməsi.O, cəldliyi artıra bilər...Daha çox oxu -
Püskürtmə hədəfinə texniki qulluq bilikləri
Hədəfin saxlanması ilə bağlı bir çox dostların az-çox sualları var, son vaxtlar hədəflə bağlı problemlərin saxlanması ilə bağlı məsləhət verən çoxlu müştərilər də var, RSM redaktoruna hədəfin saxlanması haqqında bilikləri bölüşmək üçün icazə verin.Necə püskürməlidir...Daha çox oxu -
Vakuum örtük prinsipi
Vakuum örtüyü buxarlanma mənbəyinin vakuumda qızdırılması və buxarlanmasına və ya sürətlənmiş ion bombardmanı ilə püskürtülməsinə və bir qatlı və ya çox qatlı bir film yaratmaq üçün substratın səthinə yerləşdirilməsinə aiddir.Vakuum örtüyünün prinsipi nədir?Sonra RSM redaktoru...Daha çox oxu
